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구두 발표 10월 20일(금요일)

초록 보기

발표 List

• SS4-1

  13:00-13:30
  박막 미세구조 형성에 대한 상장 모델 개발 현황
  
  *권용우¹, 이환욱¹, 박정인¹, ALI Muhammad Hassaan^{1
  1}홍익대학교
• SS4-2

  13:30-13:45
  상장모델을 활용한 UO2 입성장 전산모사 연구
  윤보현¹, *장근옥^{1
  1}경희대학교
• SS4-3

  13:45-14:00
  3D Logic Device 공정용 장비 전산모사 및 검증
  *권득철¹, 정상영¹, 장원석¹, 임연호^{2
  1}한국핵융합에너지연구원, ²전북대학교
• SS4-4

  14:00-14:15
  삼차원 메모리 핵심 공정에 대한 플라즈마 식각 공정의 전산모사
  *임연호^{1
  1}전북대학교
• SS4-5 [Invited]

  14:15-14:30
  원자층증착 공정의 해석을 위한 제일원리 전산모사 연구
  *송봉근^{1
  1}홍익대학교
• SS4-6

  14:30-14:45
  분자 동력학 웹 플랫폼 기반 반도체 공정에 필요한 원자 스케일 재료 특성 분석
  *이민호¹, *박민규¹, *김영광¹br ¹(주)버추얼랩
• SS4-7

  14:45-15:00
  다결정 박막의 실시간 미세구조 분석
  *송경^{1
  1}한국재료연구원
• SS4-8

  15:15-15:30
  나노구조 실리콘에 증착된 초박막 HfO2 특성 분석
  *이성민^{1
  1}한양대학교
• SS4-9

  15:30-15:45
  Wafer-scale uniformities and conformalities of HfO2 thin films deposited on trench structures via plasma-enhanced atomic layer deposition
  *JEON Nari^{1
  1}Chungnam National University
• SS4-10

  15:45-16:00
  실리콘 산화막 나노홀 내벽에 증착된 폴리실리콘 박막의 공정 조건에 따른 미세 구조 변화 분석
  김수민¹, 구호정¹, *조성재^{1
  1}이화여자대학교
• SS4-11

  16:00-16:15
  시뮬레이션을 활용한 원자층증착공정 기반 산화물 반도체 미세구조 제어 및 소자 특성 확보 연구
  허재석¹, *정재경^{1
  1}한양대학교
• SS4-12 [Invited]

  16:15-16:30
  공정조합설계에 기반한 고품위 다결정 Ge 활성층 실증 소재 공정 기술 개발 연구
  *안동환^{1
  1}국민대학교
• SS4-13

  16:30-16:45
  공정조합설계 기술을 이용한 금속촉매/2차원 나노소재/산화물 반도체 나노구조체 기반 고감도, 고선택성, 저전력소비 가스 감지 소재 개발
  *권기창¹, 홍구택², 심영석^{3
  1}한국표준과학연구원, ²전남대학교, ³한국기술교육대학교
• SS4-14

  16:45-17:00
  Study on Deposition of High Quality Ultrathin Multicomponent Film Using Atomic Layer Modulation
  *이한보람¹, 오일권², 김슬기^{3
  1}인천대학교, ²아주대학교, ³한국전자부품연구원